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薄膜測(cè)厚儀

簡(jiǎn)要描述：薄膜測(cè)厚儀采用光譜干涉原理進(jìn)行測(cè)量，具有非接觸、無(wú)破壞、快速等特點(diǎn)，可在真空環(huán)境使用；可與大行程工件臺(tái)配合，實(shí)現(xiàn)大面積膜厚自動(dòng)測(cè)量。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-06-04
訪問(wèn) 量：3431

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三維形貌儀膜厚測(cè)量?jī)x

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產(chǎn)品名稱：薄膜測(cè)厚儀

主要技術(shù)指標(biāo)：

測(cè)量范圍（VIS）：15nm—100μm

測(cè)量重復(fù)性（RMS）：0.086nm

測(cè)量精度（與橢偏儀對(duì)比）：0.25nm

測(cè)量層數(shù)：大于3層

使用光源：鹵素?zé)簦?

入射角度：90°

測(cè)試材料：透明或半透明薄膜材料；

光斑尺寸：20μm—3mm（可選）

測(cè)量時(shí)間：100ms—4ms；

通信接口：USB2.0

產(chǎn)品特點(diǎn)：

采用光譜干涉原理進(jìn)行測(cè)量，具有非接觸、無(wú)破壞、快速等特點(diǎn)；

可在真空環(huán)境使用；可與大行程工件臺(tái)配合，實(shí)現(xiàn)大面積膜厚自動(dòng)測(cè)量。

薄膜測(cè)厚儀測(cè)試數(shù)據(jù)：

薄膜測(cè)厚儀設(shè)備組成：

測(cè)試主機(jī)、光纖、校正件、測(cè)量頭、夾持裝置、設(shè)備箱、手提電腦。

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